先进工艺过剩 : 台积电计划关闭部分 EUV 光刻机

芯研所 9 月 2 日消息，日前，来自产业链的消息人士手机晶片达人的消息称，由于先进制程产能利用率开始下滑，而且评估之后下滑时间会持续一段周期，台积电计划从年底开始，将部分 EUV 设备关机，以节省 EUV 设备巨大的耗电支出。

台积电目前拥有大约 80 台 EUV 光刻机，主要用于 7nm、5nm 及以下的先进工艺，今年 9 月份还会量产 3nm 工艺，都需要 EUV 光刻机，然而随着 PC、手机、显卡等产品的需求下滑，先进工艺生产的芯片势必会受到影响。

苹果今年的 iPhone 14 Pro 系列的 A16 处理器也没有急着上 3nm 工艺，还在用 4nm 工艺，此外苹果还因为 3nm 能效问题，取消了初代 3nm 生产芯片的计划。相比之前的 DUV 光刻机，EUV 光刻机需要使用高能激光器，而且光线会多次折射导致损耗极大，早期效率只有 0.02%，现在量产的说是可以达到 2% 效率，但也意味着绝大多数电力都要消耗掉。EUV 光刻机生产一天需要 3 万度电左右，一年耗电大约 1000 万度。